臭氧層破壞的原因,需要怎麼保護
1、人類過多地使用氯氟烴類化學物質(用CFCs表示)是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質。在第二次世界大戰後,尤其是進入20世紀60年代以後,氯氟烴大量用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑、化工溶劑等。
2、另外,哈龍類物質(用於滅火器)、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。
3、發展中國家必須於2005年之前將氟氯烴的排放量凍結在1995-1997年的平均數量上,而發達國家已於1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質。
4、因此,必須積極尋找新的製冷工質來代替氯氟烴類物質,世界各國已經進行了許多新的嘗試,主要是應用兩類製冷劑和確定三個發展方向。
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