硅片的清洗方法

1、首先去除硅片表面的有機沾污，因爲有機物會遮蓋部分硅片表面，從而使氧化膜和與之相關的沾污難以去除；

2、然後溶解氧化膜，因爲氧化層是“沾污陷阱”，也會引入外延缺陷；最後再去除顆粒、金屬等沾污，同時使硅片表面鈍化。