硅片清洗工藝步驟有哪些
硅片清洗後有水印怎麼辦呢?一起來和小編了解一下吧。
一、硅片清洗後有水印怎麼辦
1、沖洗不乾淨,可以拿一些乾淨的硅片再重新清洗一次,不要過清洗劑槽,看是否有水印出現,若無,則是清洗劑的問題,調整即可。
2、烘乾不夠,將硅片在進入烘乾通道前取出甩幹或吹乾,看是否有水印,如無,則是加大烘乾通道的力度。
3、水中雜質含量過高,造成不易清洗,清除水中的雜質即可。
二、硅片清洗工藝步驟有哪些
吸附在硅片表面上的雜質可分爲分子型、離子型和原子型三種情況。其中分子型雜質與硅片表面之間的吸附力較弱,清除這類雜質粒子比較容易。它們多屬油脂類雜質,具有疏水性的特點,對於清除離子型和原子型雜質具有掩蔽作用。
因此在對硅片進行化學清洗時,首先應該把它們清除乾淨。離子型和原子型吸附的雜質屬於化學吸附雜質,其吸附力都較強。
在一般情況下,原子型吸附雜質的量較小,因此在化學清洗時,先清除掉離子型吸附雜質,然後再清除殘存的離子型雜質及原子型雜質。
最後用高純去離子水將硅片衝冼乾淨,再加溫烘乾或甩幹就可得到潔淨表面的硅片。
綜上所述,清洗硅片的一般工藝程序爲:去分子→去離子→去原子→去離子水沖洗。另外,爲去除硅片表面的氧化層,常要增加一個稀氫氟酸浸泡步驟。
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